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LASER633nm 科研级红光激光器特点卓越功率输出:1200mW~3000 mW输出,功率可调范围5%-100%,长期稳定性0.2%/8h(25℃恒温),支
产品详情

特点
卓越功率输出:1200mW~3000 mW输出,功率可调范围5%-100%,长期稳定性≤±0.2%/8h(25℃恒温),支持脉冲模式(1kHz-1MHz)
顶尖光束质量:TEM₀₀基模(M²<1.1),1m处光斑直径≤1.5mm,光束发散角<0.4mrad,适配高精度光学实验
智能温控系统:TEC半导体制冷+高效风冷散热,工作温度-10℃~50℃,保障高功率下24小时连续运行
科研级接口兼容:提供USB/以太网/LXI总线控制,支持LabVIEW/MATLAB自动化集成,可嵌入光学平台
技术参数
型号 | LASER633 |
波长 | 633+/-6纳米 |
空间模式 | 多模式 |
输出功率 | 1~3W |
工作模式 | CW或调制 |
梁高 | 25mm |
梁尺寸 | 3x5mm |
光束发散(全角) | 1.5mrad |
功率稳定性 | <3%/4小时 |
预热时间 | <1分钟 |
MTTF | 10000小时 |
激光头尺寸 | 102(长)x40(宽)x42(高)mm3 |
电源 | 179(宽)x148(深)x56(高)立方毫米 85~265V 50/60Hz输入 |
调制 | 0~30khz模拟或TTL |
应用范围
1. 科研与计量
干涉测量:用于高精度长度测量(如迈克尔逊干涉仪)、表面形貌分析、光学元件检测等,得益于其高相干性和稳定波长。
光谱学:作为校准光源(如拉曼光谱、荧光光谱的波长参考),或用于研究原子/分子能级结构。
全息术:制作全息图时,需要高度相干的激光光源,633 nm是常见选择。
2. 工业应用
精密对准与定位:在半导体制造、光刻机、数控机床中用于校准光学路径或机械部件的位置。
条形码扫描与激光打印:测量流体或固体表面的速度分布。
3. 医疗与生物
流式细胞仪:用于激发荧光标记物,分析细胞特性。
共聚焦显微镜:部分系统使用633 nm激光作为激发光源,尤其适用于远红荧光染料。
光动力疗法(PDT):少数研究中使用633 nm激光激活光敏剂,但更常见的是其他波长(如650 nm附近)。
4. 通信与光学测试
光纤通信测试:作为可见光光源,用于光纤对准、连接器检查或教学演示(因实际通信多用红外波段)。
光学系统调试:调试光学平台时,可见的633 nm激光便于观察光路。
科研应用
1. 生物医学与成像
光遗传学调控:激活表达ChrimsonR的神经元,实现毫秒级神经活动精准控制,研究大脑皮层功能连接,激活红移通道视蛋白(如ChRmine),精准控制神经元放电频率(时间分辨率达ms级)
2. 材料科学与纳米技术
纳米光刻加工:在光刻胶(如AZ 5214)上制备亚微米级图形(线宽≤200nm),用于微纳电子器件原型研发
薄膜厚度测量:基于激光干涉原理,精确测量半导体薄膜(如SiO₂、SiNx)厚度(精度≤1nm),监控外延生长过程
3. 物理与化学研究
其他应用
工业精密检测:半导体晶圆表面缺陷检测(划痕、颗粒),检测灵敏度≤0.1μm


选配光纤、准直器







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