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紫外激光器

LASER355~5W UV激光器 紫外激光器

LASER355~5W UV激光器激光功率和其他特性可优化在不同的重复频率范围.所指温度为环境温度.Laser power and other charact

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产品详情

LASER355~5W  UV激光器

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激光功率和其他特性可优化在不同的重复频率范围.所指温度为环境温度.

Laser power and other characteristics can be optimized in different repetition frequency ranges The temperature referred to is the ambient temperature


参数名称

参数详情

激光波长

354.7nm

平均输出功率

>5W @30KHz

脉冲宽度

<15ns @30KHz

脉冲重复频率

20-200KHz

激光输出模式

TEM₀₀

光束质量

<1.2

光斑直径

0.8±0.1mmMeasured at window

光束发散角

<1.5mrad

光斑椭圆度

>90%

脉冲稳定性

<5%RMS/@30KHz

功率稳定率

<5%RMS/8hr

光束指向稳定率

<25μrad/

偏振度

>100:1

偏振方向

Horizontal

工作温湿度

10 to 30<80%

储存温湿度

-20 to 65<90%

配电需要

100-240VAC50/60Hz,单相Single Phase

功耗

<500W

保修期

18months

应用范围

1.     薄膜蚀刻:可对半导体、显示面板等领域的薄膜材料进行高精度蚀刻,满足精细图案制作需求。

2.     材料微加工:适用于微机电系统(MEMS)、微型传感器等微小器件的加工,实现高精度的结构成型。

3.     微孔加工:能在金属、陶瓷、聚合物等多种材料上加工微小孔径,且孔的精度和质量高。

4.     晶圆切割:用于半导体晶圆的切割工艺,可提高切割效率和切割质量,提升芯片制造良率。

5.     激光标记:可在各类产品表面进行永久性标记,标记清晰、耐磨,适用于产品追溯、防伪等场景。

6.     科学研究:在光学、材料科学、生物学等科研领域,可作为光源用于各类实验研究。

科研应用:

1.材料科学与微纳加工

  • 高精度刻蚀:用于半导体芯片、光子晶体、微流控芯片的纳米级图案制备,最小线宽可达0.1μm以下。
  • 表面功能改性:通过激光诱导周期性表面结构(LIPSS),调控材料的亲水性、导电性或生物相容性,例如仿生超疏水表面、抗菌医疗器械涂层研究。
  • 新型材料合成:激光烧蚀法制备纳米颗粒(如金属氧化物量子点),或辅助二维材料(如MoS)的外延生长。

2. 生物医学与生命科学

  • 超高分辨率成像:作为共聚焦显微镜或STED显微镜的激发光源,激发DAPI、Alexa Fluor等荧光探针,实现细胞内DNA、蛋白质的单分子级观测。
  • 光操控技术:光镊系统中用355nm激光捕获细胞器或纳米颗粒,研究细胞力学特性;光遗传学中精准激活光敏离子通道(如Channelrhodopsin)。
  • 组织工程:激光辅助生物3D打印,通过紫外光固化水凝胶构建仿生支架,控制细胞排列与分化方向。

3. 光谱分析与检测技术

  • 痕量物质分析:共振拉曼光谱技术中,355nm激光可将信号强度提升10倍以上,检测限低至ppb级,适用于环境污染物(如苯系物)、食品添加剂的快速筛查。
  • 激光诱导击穿光谱(LIBS):聚焦激光使样品微区等离子体化,通过光谱分析实现矿石、合金的元素组成分析,甚至火星车等深空探测任务中的现场物质识别。
  • 荧光寿命成像(FLIM):研究生物分子(如ATP、ROS)的动态相互作用,揭示细胞代谢或疾病标志物的时空分布。

4. 物理学前沿研究

  • 量子光学:泵浦BBO晶体产生纠缠光子对,用于量子密钥分发、量子计算的基础理论验证;或通过高次谐波产生阿秒激光脉冲,观测原子内电子运动。
  • 等离子体物理:强激光与气体靶相互作用产生相对论等离子体,模拟天体物理现象(如超新星激波)或研究惯性约束核聚变(ICF)的快点火机制。
  • 非线性光学材料表征:测量晶体的二阶/三阶非线性极化率,开发新型光调制器或全光开关器件。

5. 环境与能源领域

  • 大气遥感:差分吸收激光雷达(DIAL)监测臭氧、PM2.5的垂直分布,精度可达10米空间分辨率;
  • 太阳能电池优化:激光掺杂技术提升硅基电池的载流子迁移率,或制备钙钛矿电池的纳米结构电极,提高光电转换效率。

1.激光器12 750.jpg

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选配光纤、准直器

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